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拓荆公司自主研制的国内首台12英寸PE-ALD设备通过客户验收

     2018年9月底,由沈阳拓??萍加邢薰咀灾餮兄频?2英寸原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)设备FT-300T通过了客户的验收。   ALD设备是集成电路制备过程中关键的薄膜沉积..

2021-04-02
拓??萍脊煞萦邢薰?拟推荐辽宁省“兴辽英才计划”人选公示

   根据辽宁省“兴辽英才计划”项目的相关规定,现将拓??萍脊煞萦邢薰灸馔萍霾纹馈案咚酱葱峦哦印比搜∮枰怨?。      自即日起5个工作日内,任何单位或个人对公示人..

2021-01-26
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